蒸鍍材料對OLED顯示技術有哪些影響

OLED顯示技術作為一種主動式發光技術，經過十多年的發展后終于在小尺寸手機和大尺寸電視市場取得了一定的突破，并以其絕佳的色彩、對比和未來在柔性上的前景，越來越受到消費者的喜愛。但說到OLED，就不得不提到OLED工藝技術之痛（瓶頸技術）—蒸鍍材料。由于OLED器件中有機薄膜的總膜厚為100～200nm，而且是有機材料，在CVD、蒸鍍材料、涂布、印刷等成膜技術中，目前量產性較好的就是蒸鍍材料技術了。

蒸鍍材料對上面是玻璃基板，再由殷鋼鐵鎳合金制成的Fine Metal Mask高精細掩模版蓋住玻璃，然后一起通過磁鐵吸附在上基臺上。蒸鍍材料源內放置有機材料，通過電阻絲加熱或電子束加熱的方式使材料蒸發，再通過FMM進人到規定的像素開口區。

這里的TS就是指蒸鍍材料源到FMM目標的距離，蒸做角為。TS距離一般在400～800 mm不等。如果是同樣的點蒸鍍材料源和同樣的蒸鍍材料角，TS距離較小時，材料利用率高，PPI時較小，但成膜均一性較差，且SD(Shadow Distance,即陰影距離）較大；而TS距離較大時：成膜均一性會變好，SD會變小，但材料利用率較低，PPI較大。

FMM蒸鍍材料生產FMM的方式主要有三種，即蝕刻、電鑄和多重材料金屬+樹脂材料復合。SD在這里指的就是的和，它會影響PPI，因此越小越好，否則會發生R串色到B的問題。蒸鍍材料氣體與垂直法線的較大夾角，是FMM二次刻蝕與法線的夾角，是FMM一次刻蝕與法線的夾角，a是FMM和基板間距，b是FMM二次刻蝕深度，c是FMM一次刻蝕深度，d是FMM孔較窄處寬，e是子像素間距，f是FMM二次刻蝕的基準面延伸長度，g是FMM和基板間基準面延伸長度，h是子像素下底間間距。一般希望值都小一點，這樣孔就是垂直的；同時，在a，b，c的值一定的情況下，f和g的值可以比較小；如果h的值也比較小的話，PPI可以做高。